在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，晶圓鍍膜是確保后續(xù)工藝質(zhì)量和器件性能的關(guān)鍵步驟之一。然而，晶圓表面的污染物和殘留物往往會(huì)降低鍍膜的結(jié)合力，從而影響器件的可靠性和穩(wěn)定性。為了解決這一問(wèn)題，真空等離子清洗機(jī)憑借其獨(dú)特的工作原理和技術(shù)優(yōu)勢(shì)，在提升晶圓鍍膜的結(jié)合力方面發(fā)揮了重要作用。
表面清潔：
真空等離子清洗機(jī)可以徹底去除晶圓表面的有機(jī)物、無(wú)機(jī)物、金屬殘留等污染物。這些污染物若未被清除，將成為鍍膜與晶圓基材之間的“隔離層”，嚴(yán)重影響結(jié)合力。
特別是針對(duì)先進(jìn)封裝中的PI膠或光刻膠等難以去除的殘膠，真空等離子清洗機(jī)能夠迅速而有效地進(jìn)行干式清洗，避免濕法去膠可能帶來(lái)的二次污染。
表面改性：
等離子體中的高能離子和自由基會(huì)與晶圓表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，形成新的化學(xué)鍵，從而改變表面的化學(xué)組成和性質(zhì)。
通過(guò)等離子體的轟擊作用，晶圓表面的粗糙度得到增加，這有利于鍍膜材料與晶圓基材之間形成機(jī)械鎖合，進(jìn)一步提高結(jié)合力。
活化表面：
等離子體處理能夠增加晶圓表面的極性基團(tuán)，提升親水性和接觸角，使晶圓表面更加活躍，有利于鍍膜材料的潤(rùn)濕和附著。
活化的表面還能促進(jìn)鍍膜材料與晶圓基材之間的化學(xué)鍵合，形成更牢固的結(jié)合。
